極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術

著者

• 野村, 滋 ノムラ, シゲル
• 福田, 永 フクダ, ヒサシ

書誌事項

極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術

野村滋, 福田永共著

リアライズ社, 1997.1

タイトル読み

ゴクウス シリコン サンカマク ノ ケイセイ ト カイメン ヒョウカ ギジュツ

注記

各章末: 参考文献

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN15802817
• ISBN:
  • 494765595X
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 3, 144, 18p
• 大きさ: 30cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8