Hu John

Articles:  1-1 of 1

  • SIMD型並列プロセッサを用いた高速EBデータ照査システム  [in Japanese]

    東 貴裕 , 田村 俊之 , Crochat Jerome , Hu John , 田中 健一 , 久間 和生

    LSIのフォトマスク作成用の電子ビーム描画データ (EBデータ : Electron Beam Exposure Data)は, 設計者がCADによって作成したレイアウトデータを変換して生成する. この変換工程の中で誤りが混じる可能性があり, マスクの信頼性確保のために照査が必要である. LSIの高集積化に伴い照査時間が増大し, 次世代LSIのマスクの照査には膨大な時間がかかることが予想される. …

    全国大会講演論文集 第54回(アーキテクチャ), 57-58, 1997-03-12

    IPSJ 

Page Top