齋藤 秀一 SAITO Shuichi

ID:9000004783418

(株)東芝 生産技術センター Corporate Manufacturing Engineering Center, Toshiba Corporation (2002年 CiNii収録論文より)

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  • A Surface Wave Plasma Source for Processing of Large Liquid Crystal Display Substrates and Its High Performance in Terms of Etching and Ashing Rate  [in Japanese]

    AOKI Katsuaki , UEKUSA Shin-ichiro , YAMAUCHI Takeshi , YAMAGE Masashi , SAITO Shuichi , TAKAGI Shigeyuki , KANOH Masaaki

    TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)の製造プロセスでは,生産する液晶パネルの大面積化と生産コストの低減が求められている.そこで,大面積基板の加工速度の向上による装置台数削減のために,スロットアンテナを用いた大面積で高密度(3.58×10^11cm^-3)な表面波プラズマ源を開発した.このプラズマ源を用いることでエッチングの高速化を …

    The Transactions of the Institute of Electronics,Information and Communication Engineers. C 85(7), 564-573, 2002-07-01

    References (22)

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