佐藤 成悟 SATO Seigo

ID:9000004929795

同志社大学工学部 Faculty of Engineering, Doshisha University (1997年 CiNii収録論文より)

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  • Preparation of Ti Films by Vertical Incidence of Ion Beam  [in Japanese]

    OHNO Kazuto , KOTO Masao , SATO Seigo , SOBUE Satoshi , YOSHIKADO Shinzo , YUKIMURA Ken , KUROOKA Shunji , SUZUKI Yasuo

    Tiをはじめとする高融点, 耐磨耗性, 耐腐食性を持った金属を用いてパルス電圧を印加することにより, 効率よく均質に製膜をおこなえるイオンプロセス技術を確立し, 長寿命, 高耐久性をもつ高機能材料膜を創製することを目的として, 金属イオン供給方式として, アーク放電により形成したTi金属プラズマを用い, パルス電圧を印加をしながら蒸着をおこない, その製膜特性を評価したので報告する。

    Proceedings of the IEICE General Conference 1997年.エレクトロニクス(2), 19, 1997-03-06

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