川畑 茂 KAWABATA Shigeru

ID:9000004969769

アジレント・テクノロジー(株)電子部品計測事業部 Agilent Technologies, Japan Ltd. (2002年 CiNii収録論文より)

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  • The gate oxide evaluation methods using an LF/HF impedance analyzer  [in Japanese]

    KAWABATA Shigeru , SEKINO Toshimasa

    近年、ゲート酸化膜の薄膜化によりリーク電流が増大し、ゲート酸化膜の容量測定を正確に行うことができないといった問題が発生している。こうした問題を解決するためには、リーク電流による損失が最小となる高周波での測定が必要となる。しかしながら、従来のLCRメータ等による1MHz程度のC-V測定ではこうした測定を行うことはできない。さらに、高周波でゲート酸化膜の評価を行う場合には、測定器の選択だけではなく、測 …

    Technical report of IEICE. SDM 102(133), 45-50, 2002-06-13

    References (6)

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