佐藤 裕広 SATOH Yasuhiro

ID:9000005110885

(株)東芝研究開発センター記憶材料デバイスラボラトリー Storage Materials and Devices Labs., Corporate Research and Development Center, Toshiba Corp. (2005年 CiNii収録論文より)

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  • A New Dielectric Film "SiOC" Having the Low Refractive Index for the Mass Production of the Rewritable HD DVD Media  [in Japanese]

    SATOH Yasuhiro , NAKAI Tsukasa , ASHIDA Sumio , YUSU Keiichiro

    我々はHD DVDの書き換え型媒体が、現行DVD同等の量産性を有することを実証した。20GBの容量を持つHD DVDの単層タイプの書き換え型媒体には、クロスイレースを低減するために、SiO_2のような低屈折率膜が必要となる。低屈折率材料の成膜速度は他の膜に比べ非常に遅く、媒体の大量生産時にボトルネックとなる可能性が大きい。我々は高い成膜速度が実現可能である新しい低屈折率材料"SiOC"を開発した。 …

    IEICE technical report 105(360), 13-17, 2005-10-21

    References (3)

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