村上 泰夫 MURAKAMI Yasuo

ID:9000014639586

大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター (2009年 CiNii収録論文より)

Search authors sharing the same name

Articles:  1-1 of 1

  • Analyses of Hard Carbon Film Formation Mechanisms by Molecular Dynamics Simulations  [in Japanese]

    MURAKAMI Yasuo , HAMAGUCHI Satoshi

    硬質炭素膜の堆積過程メカニズムを理解するために,炭化水素系ラジカルCH_3およびCHを水素フリーのアモルファスカーボン基板に照射したときの表面反応に関して,分子動力学シミュレーションを用いて解析した.この解析により,基板表面の吸着率は,本研究で調べた入射エネルギー領域(2-50eV)において,CHラジカルの方がCH_3ラジカルより常に高いことが確認された.また,CH_3またはCHラジカルの入射によ …

    Journal of plasma and fusion research 85(10), 674-679, 2009-10-25

    NDL Digital Collections  References (12)

Page Top