川口 秀樹 Kawaguchi H.

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  • Self-consistent Analysis of Microwave and Plasma in Microwave excited of Surface-wave Plasma Semiconductor Processing  [in Japanese]

    Nishikawa T. , H. Masato , Matsuoka S. , Kawaguchi H. , Kagami S.

    マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置におけるプラズマが形成される現象を把握すべく,プラズマ中のマイクロ波と電子密度分布を同時に計算する自己無撞着のためのアルゴリズムの検討を行った。実際に用いられた装置形状において真空状態からシミュレーションを開始し,自己無撞着解析により徐々にプラズマを生成させ,最終的に表面波状のプラズマ分布が得られることを確認したので報告する。

    IEICE technical report. Microwaves 109(158), 111-114, 2009-07-23

    References (6)

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