遠藤 章宏 ENDO Akihiro

ID:9000253328073

(株)リープル lEEPL Corporation (2002年 CiNii収録論文より)

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Articles:  1-1 of 1

  • Development of the next-generation electron-beam exposure system

    NOZUE Hiroshi , ENDO Akihiro , HIGUCHI Akira , KASA-HARA Haruo , SHIMAZU Nobuo

    半導体デバイスの微細加工を推進するリソグラフィー技術は転換期を迎えつつある.これまで量産で用いられてきた光リソグラフィーは微細加工限界が見えつつあると同時に,限界を打破するための種々複雑な新規技術開発が必要となり,装置,材料およびプロセスのコスト上昇が激しく,産業としての採算性に疑問がもたれている(リソグラフィー危機).これに対し,電子線リソグラフィーは高解像度かつプロセスの容易性から,先端デバイ …

    OYOBUTURI 71(4), 421-424, 2002

    J-STAGE 

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