小川 一文 OGAWA Kazufumi

ID:9000254932028

松下電器産業 (株) 半導体研究センター Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (1988年 CiNii収録論文より)

Search authors sharing the same name

Articles:  1-1 of 1

  • Effect of deep UV irradiation on a positive photoresist and its aplication to microlithography.  [in Japanese]

    ENDO Masayuki , SASAGO Masaru , OGAWA Kazufumi

    ジアゾナフトキノン型のポジ型フォトレジストは, 遠紫外線照射によって, 成分中の低分子量クレゾール・ホルムアルデヒド・ノボラック樹脂の重合化やクレゾール・ホルムアルデヒド・ノボラック樹脂とジアゾナフトキノンエステルの光反応物間でのエステル結合の生成などが起こることが推測された. このようなポジ型フォトレジストのバターンを形成した後に遠紫外線照射を行うと, レジストの耐熱性が向上し, レジストバター …

    KOBUNSHI RONBUNSHU 45(10), 771-776, 1988

    J-STAGE 

Page Top