河上 貴聡 Kawakami Taka-aki

ID:9000258704010

長崎大生産科学 Graduate School of Science and Technology, Nagasaki Univ. (2009年 CiNii収録論文より)

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  • Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Amorphous Carbon Film Using Acetylene  [in Japanese]

    Shinohara Masanori , Kawazoe Hiroki , Inayoshi Takanori , Kawakami Taka-aki , Matsuda Yoshinobu , Fujiyama Hiroshi , Nitta Yuuki , Nakatani Tatsuyuki

    プラズマCVD法を用いたアモルファス炭素膜成長において、原料としてアセチレンを用いた場合の成長反応のついて、多重内部反射赤外吸収分光法を用いて調べた。膜の前駆体としてsp-CHをもつ化学種が堆積されやすいことが分った。この化学種の変遷から、この堆積された化学種と気相中から供給される化学種の付加反応で膜堆積がされると考えられる。また、膜中にも炭素の2重結合が残されながら成膜されることが分った。

    Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 29(0), 227-227, 2009

    J-STAGE 

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