奥村 俊明 OKUMURA TOSHIAKI

ID:9000283779691

京都大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Kyoto University (2009年 CiNii収録論文より)

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  • Molecular Mechanism of Whisker Growth Induced by Glancing Angle Deposition  [in Japanese]

    OKUMURA TOSHIAKI , MATSUMOTO MITSUHIRO

    金属蒸気の高温斜め蒸着(glancing angle deposition on a high temperature substrate, HT-GLAD)によりウィスカが生成されることが実験的に知られている。このメカニズムを調べるため、我々はレナード・ジョーンズポテンシャルを用いたGLADの分子動力学シミュレーションを行い、蒸着物の形態が蒸気密度・粒子速度・蒸着角にどのように依存するかについて …

    Proceedings of National Heat Transfer Symposium 2009(0), 148-148, 2009

    J-STAGE 

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