大橋 遼 Ohashi Haruka

ID:9000345209987

弘前大学大学院理工学研究科 Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University (2016年 CiNii収録論文より)

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  • Characteristics of Si/N-Incorporated DLC Films Prepared by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Hydrogen as a Dilution Gas  [in Japanese]

    Nakamura Kazuki , Ohashi Haruka , Yokoyama Tai , Tajima Keiichiro , Endoh Norihumi , Suemitsu Maki , Enta Yoshiharu , Nakazawa Hideki

    希釈ガスにH<sub>2</sub>を用いたプラズマCVD法により作製したSiおよびNを共添加したDLC(Si-N-DLC)の膜特性を評価した。N添加DLC(N-DLC)に比べて内部応力は低く、スクラッチ試験により得られた臨界荷重および光透過率は高かった。ラマン分光、FTIR、XPSにより、Si-N-DLCには Si-N結合成分が存在し、N-DLCに比べてsp<sup …

    Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 36(0), 324, 2016

    J-STAGE 

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