岩田 寛 Iwata Hiroshi

ID:9000347215476

横浜国立大学 田中研究室 Yokohama National University Tanaka Lab. (2015年 CiNii収録論文より)

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Articles:  1-1 of 1

  • Zirconium oxide thin films prepared by the reactive sputtering

    Kato Daiki , ishii hiroki , Furusawa Masashi , Iwata Hiroshi , Sekiya Takao , Tanaka Masatoshi

    円筒型Zrターゲットを備えた反応容器に、放電ガスにアルゴンと反応性ガスの酸素を導入し、反応性マグネトロンスパッタリングを行い、Zr-O薄膜を作製した。作製した試料の吸収スペクトルから光学特性および膜厚を算出し、さらにXRDを用いて結晶相を決定した。そこから酸素ガスの流量と基板の温度の依存性について検討した。今後SEM観察とAlq3を蒸着した試料の発光スペクトルを測定し、作成した試料の表面の状態を評 …

    Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 35(0), 118, 2015

    J-STAGE 

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