岩田 寛 Iwata Hiroshi

ID:9000347215517

横浜国立大学大学院 田中研究室 Graduate school,Yokohama National University,Tanaka.lab (2015年 CiNii収録論文より)

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  • Formation and properties of the Zirconium nitride thin film by the DC magnetron sputtering

    Iwata Hiroshi , Kato Daiki , Furusawa Masashi , Ishii Hiroki , Sekiya Takao , Tanaka Masatoshi

     円筒型ジルコニウムターゲットを用いた反応性DCマグネトロンスパッタリング法による窒化ジルコニウム薄膜の作成をガラス基板上に行った。不活性ガスであるアルゴンの流量を一定に保ち、窒素流量及び基盤温度をパラメーターとして変化させた。作成した試料の膜厚、光学特性、X線回折を用いた結晶構造解析により窒化ジルコニウム薄膜の評価を行った。

    Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 35(0), 115, 2015

    J-STAGE 

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