岩田 寛 Iwata Hiroshi

ID:9000347216738

横浜国立大学 Yokohama National University (2015年 CiNii収録論文より)

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  • Development of low damage sputtering cathode and evaluation of its performance

    Iwata Hiroshi , Okada Keisuke , Ishii Hiroki , Kato Daiki , Sekiya Takao , Tanaka Masatoshi

    ターゲットを短い円筒形にし、その内側をスパッタするカソードを開発した。この円筒ターゲット開口部の外側に基板を配置することで、高いエネルギーを持つ反跳アルゴンの入射が排除されて成膜できる。成膜速度を測定した結果、膜厚分布も併せて十分に実用できると考えられる。講演では本開発研究の詳細な報告をする。

    Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 35(0), 397, 2015

    J-STAGE 

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