岩田 寛 Iwata Hiroshi

ID:9000363181485

横浜国立大学工学研究院 Faculty of Engineering, Yokohama National University (2017年 CiNii収録論文より)

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  • Characterization of ZrON thin films prepared by reactive sputtering using a hollow cylindrical cathode  [in Japanese]

    Iwata Hiroshi , Ishii Hiroki , Kato Daiki , Kawashima Shohei , Kodama Kakeru , Tanaka Masatoshi , Sekiya Takao

    ZrON系薄膜を石英ガラス、グラッシーカーボン基板上に中空円筒形カソードを用いた反応性スパッタリングにより作成した。X線回折から、薄膜はZrN、Zr2ON2、ZrO2の混合相で構成され、酸素流量に依存していた。XPS測定により、Zr3dバンドを評価した。電気化学測定では、酸素流量が0.4の酸化還元電位が最高であった。<br>

    Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 37(0), 98, 2017

    J-STAGE 

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