板垣 哲朗 Itagaki Tetsuro

ID:9000391830131

早大理工 (2004年 CiNii収録論文より)

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  • アルコール修飾層状オクトシリケートの合成  [in Japanese]

    Kiba Shosuke , Watanabe Shintaro , Itagaki Tetsuro , Kuroda Kazuyuki

    H型オクトシリケートとアルコールを反応させて、エステル化オクトシリートを合成した。アルキル鎖長が3以上のアルコールはH型オクトシリケートと直接反応せず、ジメチルスルホキシドなどの有機分子をインターカレートした中間体が必要であった。生成物のXRD, IR, 固体13C NMRから、層間にアルコールが導入されたことが、TG-DTAにより層間のアルコールが層表面に固定化されていることを明らかにした。

    Abstracts of annual meeting of The Clay Science Society of Japan 48(0), 101-101, 2004

    J-STAGE 

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