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検索結果 28 件

  • 1 / 1

  • 光学系構築（実践編）

    飯野 亮太 応用物理 87 (6), 442-446, 2018-06-10

    ...<p>全反射蛍光顕微鏡（TIRFM）は，ガラス基板近傍の試料のみに届くエバネッセント場を局所的な励起光として用いる光学顕微鏡です．エバネッセント場を利用して背景光を大幅に低減することで，水中，室温で蛍光色素1分子をリアルタイムイメージングすることができます．本稿では，TIRFMの基本原理と装置の構築法を解説します．</p>...

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  • 局在光制御によるセルインマイクロファクトリに関する基礎的研究（第二報）

    古谷 成康, 増井 周造, 道畑 正岐, 高増 潔, 高橋 哲 精密工学会学術講演会講演論文集 2018S (0), 861-862, 2018-03-01

    ...<p>光放射圧を主体とした制御系を介して数mm の領域内で任意のマイクロビーズを取り扱い，組み合わせることで複合的な機能を備えた多機能マイクロビーズデバイスを生産するマイクロファクトリの存在が期待されている．このような「セルインマイクロファクトリ」の要素技術として，本研究ではエバネッセント場の制御によるマイクロ粒子の整理・搬送システムを提案し，実験的に検討を行った．</p>...

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  • エバネッセント光を応用した酸化膜CMPにおける研磨界面での現象解析

    出井 良和, 木村 景一, パナート カチョーンルンルアン, 鈴木 恵友, 迫田 卓 精密工学会学術講演会講演論文集 2012S (0), 799-800, 2012

    ILD/STI-CMPにおける材料除去モデルとして、研磨微粒子の凝着・その後の転動によって化学反応膜分子を除去するモデルを支持している。エバネッセント光を応用して研磨時の材料除去現象を観察することで、材料除去時の研磨微粒子の機能を明らかにすることを目的とする。実験より、研磨条件変更時の研磨面での微粒子の挙動を捉え、研磨条件と研磨微粒子移動速度の関係を確認した。

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  • エバネッセント光を応用したSiO<sub>2</sub>膜CMPにおける研磨微粒子の挙動に関する研究

    出井 良和, 木村 景一, 鈴木 恵友, カチョーンルンルアン パナート 精密工学会学術講演会講演論文集 2011A (0), 165-166, 2011

    ILD/STI-CMPにおける材料除去モデルとして、研磨微粒子の転動によって化学反応膜分子を除去するモデルを支持している。実際の研磨時の研磨微粒子の挙動を研磨面表面近傍に限定して観察し、研磨現象の把握と、研磨への微粒子の寄与を明らかにすることを目的とする。コロイダルシリカスラリー、セリアスラリーを用いて実験を行い、研磨面での微粒子の転動・滑り運動を確認した。微粒子単独での材料除去現象への作用が推…

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  • 変調エバネッセント照明による三次元高分解能計測に関する研究（第一報）

    栗原 貴之, 杉本 竜一, 工藤 良太, 高橋 哲, 高増 潔 精密工学会学術講演会講演論文集 2011S (0), 829-830, 2011

    ...内部全反射顕微法においてエバネッセント場内の蛍光微粒子の高さを計測する手法の研究を行った。この手法はエバネッセント光の深さ方向の強度分布が入射角に依存することを用いて、複数の入射角における散乱光強度変化の情報から蛍光微粒子の界面からの距離を計測するものである。提案手法の検証のために光学系および観察用試料を作成し、計測実験を行った。結果は粒子の高さを定性的に反映しており、提案手法の有用性が示された。...

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  • 原子ミラーを用いた同位体シリコン原子の運動制御

    塩見 康友, 熊谷 寛 電気学会論文誌Ｃ（電子・情報・システム部門誌） 127 (9), 1348-1349, 2007

    Controlling the motion of silicon isotopes with an atomic mirror which is comprised of dielectric dual layers is numerically demonstrated under the realistic condition. The performance of the atomic …

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  • １分子イメージングでタンパク質の機能を探る

    船津 高志 日本レーザー医学会誌 26 (4), 327-332, 2006

    ...光学顕微鏡技術は、生命科学研究に不可欠な技術である．特に，蛍光顕微鏡法は特定の物質のみを光らせて見るので，細胞のように様々な生体分子が高密度で存在していても，特定の生体分子の挙動を選択的にイメージングすることが可能である．全反射によるエバネッセント場顕微鏡などに代表される新しい顕微鏡技術と，機能性蛍光試薬の開発や緑色蛍光タンパク質，量子ドットなどに代表される蛍光標識技術の進歩が，1分子イメージングの...

    DOI 参考文献17件

  • エバネッセント場を利用した細胞‐材料表面間の相互作用解析

    有馬 祐介, 岩田 博夫 日本レーザー医学会誌 26 (1), 38-44, 2005

    人工材料表面への細胞の接着は医療やバイオテクノロジーへの応用において重要である．材料への細胞の挙動を理解するために，様々な官能基を有するアルカンチオールの自己組織化単分子膜（SAM）をモデル表面として用い，SAMへのタンパク吸着の解析を表面プラズモン共鳴（SPR）法で，細胞接着過程の観察を全反射蛍光顕微鏡（TIRFM）を用いて行った．材料が体液と接触すると，即座にタンパク質が材料表面に吸着し，続…

    DOI 医中誌 参考文献36件

  • 赤外エバネッセント光によるSOIウエハ薄膜層内欠陥検出に関する研究（第1報）

    中島 隆介, 三好 隆志, 高谷 裕浩 精密工学会学術講演会講演論文集 2003A (0), 447-447, 2003

    本研究は，次世代の高機能半導体に用いられるSOIウエハにおける，薄膜層内の3次元微小欠陥検出手法として，エバネッセント光によるナノ欠陥計測法を提案するものである．本報では，SOI層をスラブ導波路として伝播する赤外光により発生するエバネッセント光を，プローブで走査検出し得られた光強度分布から，SOI/BOX両層内の欠陥の検出及び，その識別が可能な条件をFDTDシミュレーションによって明らかにする．

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  • 赤外エバネッセント光によるSiウエハ加工表面層欠陥検出に関する研究（第6報）

    中島 隆介, 高橋 哲, 三好 隆志, 高谷 裕浩 精密工学会学術講演会講演論文集 2003S (0), 580-580, 2003

    ...シリコンウエハ内部に数十nmの微小欠陥が存在する場合に，その周囲における電磁場の分布を3次元FDTD法によって解析した．その結果ウエハ表面のエバネッセント場をプローブで走査した場合に，得られる強度分布から，その検出が可能であることを示した．この結果に基づき，実際にウエハ内にFIBを用いて擬似内部欠陥を作成し，それの検出を試みた結果より，本提案手法の微小内部欠陥検出への適用の可能性が示された．...

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  • フォトン走査トンネル顕微鏡技術

    大津 元一 応用物理 65 (1), 2-12, 1996

    ...エバネッセント場を利用した応用装置であるフォトン走査トンネル顕微鏡の原理,プロープ作製技術,各種試料の計測結果の現状を概説する.特に,微小加工,光機能素子開発,原子の操作への可能性を示す.関連する理論の現状についても触れる....

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  • 近接場光学顕微鏡でどこまで高分解能像が得られるか？　（１）

    大津 元一 表面科学 17 (12), 771-774, 1996

    ...エバネッセント場を利用した近接場光学顕微鏡の原理,基本構成について概説する。特にエバネッセント場のもつ二つの基本的性質(物質寸法依存のパワー局在,プローブ・試料の寸法に関する共鳴)について述べ,これをもとに分解能はプローブ先端の寸法が決めることなどについて指摘する。微小なプローブを作成する技術,プローブ位置を制御する方法などを述べる。...

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