井川, 昂輝, 史, 又華, 柳澤, 政生, 戸川, 望
DAシンポジウム2015論文集
2015
23-28,
2015-08-19
...製造プロセスの微細化により，配線遅延の相対的な拡大や，製造ばらつきの増大が問題となっている．製造ばらつきに対する有力な解決策として，基板バイアス制御がある．順方向基板バイアス電圧の印加により，低速な LSI は高速化するため，歩留りが向上する．しかしリークエネルギーの増大が問題となるため，増大量を最小化する回路構成を設計段階で考慮する必要がある．本稿では高位合成段階で適切に配線遅延への対応が可能な分散...
情報処理学会
