検索結果を絞り込む

本文・本体へのリンク

検索結果 987 件

  • マグネトロンスパッタリングを用いた<i>h</i>BNナノシートの合成及び構造評価

    吉井 寛太, 吉里 樹人, 平田 祐樹, 赤坂 大樹, 大竹 尚登 精密工学会学術講演会講演論文集 2023S (0), 70-71, 2023-03-01

    ...<p>マグネトロンスパッタリング法とアニーリングを重畳し成膜を行うことで六方晶窒化ホウ素薄膜の合成に成功した.Cu基板上に900℃を超える温度で成膜を行った.このサンプルについて電子顕微鏡で断面観察を行ったところ,基板表面に対して平行な平面構造が配列されていることが確認できた.また,ラマン分光分析では六方晶窒化ホウ素の面内振動に起因するピークも見られ,六方晶窒化ホウ素の合成が確認できた.</p>...

    DOI

  • 高精度X線望遠鏡用電鋳ウォルターミラーの開発

    毛利 柊太郎, 伊藤 旺成, 伊藤 駿佑, 山口 豪太, 三村 秀和 精密工学会学術講演会講演論文集 2023S (0), 692-693, 2023-03-01

    ...<p>太陽フレア観測プロジェクト(FOXSI-4)のロケットに搭載されるウォルターミラーにおいてnmオーダーの形状精度を実現するため,Si成膜後の修正加工による高精度化を目指している.ウォルターミラー内面に均一の膜厚量でSiの均一成膜を行うためのDCマグネトロンスパッタリング装置を開発した.本発表では,開発した成膜装置の装置特性を評価し,成膜後のウォルターミラーの集光性能について述べる.</p>...

    DOI

  • 酸化ニッケルを用いた可視光透過型デバイスの提案

    杉山 睦 応用物理 92 (1), 25-29, 2023-01-01

    ...では実現できない特性を有する機能性材料である.この特徴を生かし,n型ZnOなどとで構成されるNiO/ZnO可視光透過型太陽電池は,紫外線のみを吸収し発電する太陽電池・紫外線センサとして応用が期待される.また,透明な太陽電池で生み出したエネルギーを中心として,透明なセンサ・トランジスタなどと組み合わせることで,IoT向けエネルギーハーベストデバイスの実現も期待できる.本稿では,工業化が容易なRFマグネトロンスパッタ...

    DOI

  • 電子レンジによる食品のマイクロ波加熱研究の動向

    橋口 真宜, 米 大海, 村松 良樹 美味技術学会誌 21 (1), 45-56, 2022-07-31

    ...従来,電子レンジはマグネトロン式波源による2.45 GHzのマイクロ波を利用しているが食品の一様加熱を実現するには周波数の安定性や再現性の不足と制御の難しさが指摘されており<sup>2)5)</sup>,半導体利用によるソリッドステート式波源が使用され始めている。...

    DOI

  • 大電力パルススパッタリング法を用いたナノ粒子合成の基礎検討

    堀 智貴, 桃園 聡, 平田 敦, 青野 祐子 精密工学会学術講演会講演論文集 2022S (0), 82-83, 2022-03-02

    ...<p>本研究では,大電力パルスマグネトロンスパッタ(HiPIMS)法によるナノ粒子合成を検討した.低蒸気圧を示すポリエチレングリコールでスパッタ粒子を捕捉し, TEMとDLSでは数nmの粒子が凝集して数百nmの二次粒子を形成していることを明らかにした.HiPIMSの電圧波形により,プラズマのイオン種の割合が変化することを確認し,プラズマ条件が凝集径に与える影響を検討した.その結果,高電圧・短パルスの...

    DOI

  • マグネトロン研究からマイクロ波加熱応用という学際融合研究へ

    三谷 友彦 日本電磁波エネルギー応用学会機関誌 7 (2), 13-14, 2022

    このたび「次世代マイクロ波加熱システムの研究開発および若手研究者ネットワークの形成」という題目にて第4回JEMEA学会賞を賜り、推薦あるいは厳正なる審査を頂いたJEMEA関係者の皆様、これまでの研究を支えて頂いた皆様に心より感謝申し上げたい。今回の受賞にあたり、これまでの研究活動を振り返るとともに異分野間の学際融合研究の在り方について本稿に記す。

    DOI

  • 長距離大電力マイクロ波送電システムの検討

    楊 波, 篠原 真毅, 三谷 友彦 宇宙太陽発電 7 (0), 18-19, 2022

    ...<p> 位相制御マグネトロンの技術を使用し,長距離大電力マイクロ波無線電力伝送システムを検討した.位相制御マグネトロンの電力合成技術を用いて大電力マイクロ波が出力可能なフェーズドアレーを構築する.既に完成した位相制御マグネトロンの位相制御は±1°以内を実現しており,高効率電力合成を実現できる.注入信号から送電ビーム制御に向けた位相調整を行い,大電力の移相器による損失を回避する.本研究では,5.8 GHz...

    DOI

  • <総説>電子レンジから宇宙太陽光発電まで

    楊, 波 生存圏研究 17 16-21, 2021-11-19

    ...その中にあるマイクロ波発生器であるマグネトロンは電子レンジ以外に、工業マイクロ波加熱やレーダーなど業界にも多く応用されている。今年はマグネトロンが発明された100周年で、本文でマグネトロンの新しい応用マイクロ波無線電力伝送技術及びこの技術に関わる宇宙太陽光発電構想を解説する。...

    HANDLE Web Site

  • 電子レンジ庫内の金属物体からの放電発光特性と電磁波による放電検出に関する基礎検討

    久恒 伊央莉, 藤本 樹貴, 大塚 信也 電気関係学会九州支部連合大会講演論文集 2021 (0), 276-276, 2021-09-17

    ...<p>電子レンジでは2.4Ghz帯のマグネトロンが使用されており、食品の加熱調理が行われている。レンジ庫内に金属などが存在する異常使用時には、放電が発生し火災などの事故に至ることがある。事故の未然防止には、レンジ庫内で発生する放電を検知することが重要である。筆者らはこれまでに、電子レンジ動作中でもマグネトロン起因の電磁波を除去することで金属電極からの放射電磁波を検出できることを示している。 ...

    DOI

  • 窒素化ナノカーボン薄膜の構造,電気化学特性と分析への応用

    太田 早紀, 芝 駿介, 鎌田 智之, 加藤 大, 矢嶋 龍彦, 丹羽 修 分析化学 70 (9), 511-520, 2021-09-05

    ...<p>アンバランストマグネトロン(UBM)や電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタリング装置を用いて作製したナノカーボン薄膜は,安定で広い電位窓を有している.著者らは窒素ガス共存下のスパッタリングや,アンモニアガス存在下の熱処理,窒素やアンモニアガス存在下のプラズマ処理を行うことで,窒素原子を含むナノカーボン膜を作製した.スパッタガスや熱処理の際の窒素ガスの濃度を変えることでカーボン膜内の窒素濃度...

    DOI Web Site Web Site 参考文献35件

  • カーボン薄膜電極を用いる重金属イオンの高感度電気化学検出

    高橋 将太, 栁澤 博幸, 鎌田 智之, 加藤 大, 栗田 僚二, 芝 駿介, 丹羽 修 分析化学 70 (3), 101-109, 2021-03-05

    ...<p>アンバランスマグネトロン(UBM)や電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタリング装置を用いて,カーボン薄膜電極を開発した.またUBMスパッタリング装置で金(Au)とカーボンの共スパッタを行い,カーボン薄膜中にAuナノ粒子が埋め込まれた(AuNP-C)電極を開発した.さらにAuNP-C電極上のAuNPのみにAuを電析させ,AuNP表面積の大きな薄膜電極(Au/AuNP-C)を作製した.これらの...

    DOI Web Site Web Site

  • 有明海佐賀県海域におけるタイラギ稚貝移植技術開発

    大庭, 元気, 野間, 昌平, 重久, 剛佑, 野田, 進治, 江口, 勝久, 佃, 政則 佐賀県有明水産振興センター研究報告 = Bulletin of Saga Prefectural Ariake Fisheries Research and Development Center (30) 31-35, 2021-03

    ...移植方法は手植えよりも効率的なばらまきでも生残率に差はなく,散逸・食害はネトロンシート製のカゴで対策が可能であることがわかった。移植地は,沖合も干潟も同等の生残率であり,移植貝は成熟および放卵・放精が確認されたことから,人工稚貝の移植による母貝団地創出の可能性が示唆された。...

    日本農学文献記事索引 Web Site

  • プラズマ支援反応性プロセスによるアモルファスInGaZnO<sub>x</sub>薄膜形成

    竹中 弘祐, 内田 儀一郎, 江部 明憲, 節原 裕一 応用物理 90 (1), 35-39, 2021-01-10

    ...に向けて,制御駆動素子である薄膜トランジスタ(TFT)の高性能化が喫緊の課題とされている.さらには次世代ディスプレイとして期待されているフレキシブルディスプレイの応用においては,そのTFTのチャネル層材料は低温で形成されることが必須である.これらの材料としては,高移動度を有し低温で形成可能なアモルファスIn-Ga-Zn-O<sub>x</sub>(a-IGZO)が有望視されている.本研究では,マグネトロン...

    DOI Web Site

  • 高周波マグネトロンスパッタにより成膜した窒化ハフニウム薄膜の結晶配向性の成膜時の基板位置依存性

    大住 知暉, 後藤 康仁 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2021 (0), 1Dp12-, 2021

    ...<p>高周波マグネトロンスパッタリングによって、窒化ハフニウム(HfN)ターゲットを用いて基板ホルダ上の異なる位置でHfN薄膜を成膜した。結晶配向性と成膜時の基板位置の関係をX線回折のロッキングカーブ測定によって調べた。高周波電力80 W、基板温度500℃、アルゴン圧力1.2 Paで成膜した場合、基板位置によりロッキングカーブが異なることから、結晶配向性が異なることが示唆された。</p>...

    DOI

  • パルスマグネトロンスパッタリング法によるナノクラスター担持機能材料

    中嶋 敦, 平田 直之, 戸名 正英, 塚本 恵三 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2021 (0), 3Ba01-, 2021

    ...本研究ではスパッタリングをパルス的に行う高出力インパルスマグネトロンスパッタリング法を用いて、白金や銀の単成分や金属-シリコンの複合成分のNCをイオン電流量nA程度の量で生成させ、電池触媒や光応答表面、電気伝導体などの機能材料に展開した。</p>...

    DOI

  • 直流スパッタリング法により堆積された銀薄膜におけるマウンド状構造の形成

    草野 英二 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2021 (0), 1Dp13-, 2021

    ...<p>直流マグネトロンスパッタリング法によりAg 薄膜を堆積し,微小構造形態と物性を観察した.高い温度の基板に堆積されたAg 薄膜においては,薄膜構造モデルにおいては説明されていなかった粒間に空間のあるマウンド状構造が形成された.粒の横方向の径は,基板温度とともに大きくなり,電気抵抗率も高くなった.空間のあるマウンド状構造の形成をAgの高い表面拡散係数と膜堆積中に蓄積される応力の緩和に相関し,説明した...

    DOI

  • 電子レンジ動作時の金属電極からの放電放射電磁波の検出特性に関する基礎研究

    古家 広貴, 大塚 信也 電気関係学会九州支部連合大会講演論文集 2020 (0), 11-11, 2020-09-18

    ...<p>マイクロ波加熱を原理とする電子レンジでは、2.4GHz帯のマグネトロンが使用されており、食品の加熱調理が行われている。しかし、レンジ庫内に金属などが存在する異常使用時には放電が発生し火災などの事故に至ることが報告されている。火災の未然防止には、レンジ庫内で発生する放電を検知することが重要である。...

    DOI

  • 物理気相成長法による窒化ホウ素薄膜の合成と膜品質の制御

    吉里 樹人, 平田 祐樹, 赤坂 大樹, 大竹 尚登 精密工学会学術講演会講演論文集 2020S (0), 396-397, 2020-03-01

    ...<p>六方晶窒化ホウ素の原子層膜(h-BN薄膜)は優れた化学的安定性やワイドバンドギャップを有する絶縁体である.これらの性質により電子デバイスの絶縁層への応用が期待されているが,化学気相成長法による作製では原料ガスの毒性・爆発性が課題となっている.本研究では,簡便かつ安全なh-BN薄膜の合成手法の開発を目的としてマグネトロンスパッタリング法とポストアニーリングを併用することにより銅基板上へのBN薄膜作製...

    DOI

  • 負のプラズマ電位を持つ直流マグネトロンスパッタリング放電の構造

    草野 英二 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2020 (0), 32-, 2020

    <p>Mgをターゲットし,Ar-CF<sub>4</sub>混合ガスを放電ガスとする直流反応性スパッタリング放電においてプローブ測定により得られた陰極シース電位差および陽極(接地)シース電位差,および電子/負イオン電流比についての測定結果より,電気的に陰性な直流放電の構造,さらにはプローブ測定において負イオン電流による電流−電圧特性の対称性が明確に現れないことの要因と放電構造の関連について考察し…

    DOI

  • アルミナコート内部コイルICP支援スパッタ法によるAlドープZnO薄膜物性の径方向分布改善に関する研究

    今泉 悟, 中村 忠, 沖村 邦雄, モハメッド シュルズ ミヤ 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2020 (0), 121-, 2020

    ...<p>本研究では、Alドープ酸化亜鉛(AZO)薄膜の膜物性値に対する誘導結合プラズマ(ICP)支援RFマグネトロンスパッタの影響を調査した。不純物の問題を回避するために、アルミナコーティングされた内部コイルを導入した。その結果、ICP支援スパッタ法では、従来の方法と比較して、AZO薄膜の膜厚と抵抗率の径方向不均一性が改善された。</p>...

    DOI

  • 高周波マグネトロンスパッタにおけるチタン薄膜の結晶配向と成膜時の基板位置の関係

    後藤 康仁, 佐藤 嶺 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2020 (0), 33-, 2020

    ...<p>高周波マグネトロンスパッタを用いて,チタン薄膜を熱酸化膜のついたシリコン基板上に成膜し,成膜位置による結晶配向の違いをX線回折のロッキングカーブを用いて調べた。基板温度300℃,アルゴン圧力 2.0 Pa,高周波電力 50 Wで作製した場合には,成膜位置による結晶配向の違いは見られなかった。この結果は,タングステン薄膜形成で得られた,外側位置において異なる配向が見られた結果とは異なる。...

    DOI

  • マグネトロンフェーズドアレーを用いるマイクロ波無線電力送電システムの研究

    楊 波, 三谷 友彦, 篠原 真毅 宇宙太陽発電 4 (0), 11-12, 2019-04-01

    ...<p> マグネトロンはマイクロ波発振源として,高効率,安価,軽量化という実用的な長所がある.しかし,マグネトロンの発振周波数が不安定である.本稿は注入同期法及びPLL法を利用し,マグネトロンの位相制御ループを実験で検証した.位相制御マグネトロンをマイクロ波発振源として,複数台のマグネトロンをアレー化し,マイクロ波送電システムを構築する.複数台のマグネトロンの出力周波数が同一の場合に,マグネトロン間の...

    DOI

  • 物理気相成長法を用いたa-BCN膜の作製と評価

    竹内 亮大郎, 岩本 喜直, 河越 雅雄, 谷口 紘章, 平田 祐樹, 赤坂 大樹, 大竹 尚登 精密工学会学術講演会講演論文集 2019S (0), 151-152, 2019-03-01

    ...<p>a-BCN膜は,DLC膜の高硬さ・低摩擦係数といった性質と,a-BN膜の高耐熱性・鉄に対して不活性という性質を併せ持ち,機械部品の摺動面への被覆剤としての適用が期待されている.しかし,膜の作製条件とその構造,機械的特性との関係は未解明である.本研究では,物理気相成長法である真空アーク蒸着法とマグネトロンスパッタリング法を重畳した新たなa-BCN膜の作製手法を開発し,膜の構造と機械的特性を評価した...

    DOI

  • ZnOバッファー層上へのAl-doped ZnO 薄膜の堆積と評価

    今泉 悟, 福住 達郎, 諏訪 翁紀, 沖村 邦雄 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2019 (0), 2P52-, 2019

    ...<p>本研究では,高周波マグネトロンスパッタ法によるAl-doped ZnO薄膜堆積において,基板に結晶質ZnOバッファー層を導入し影響を調べた.バッファー層の種類として,本研究室で堆積可能なZnO薄膜,ZnO nano rodを導入した.</p>...

    DOI

  • 小口径ドーナツ型プラズマ放電を可能にするマグネトロンカソード

    本村 大成, 田原 竜夫 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2019 (0), 1P01Y-, 2019

    ...<p>小口径ドーナツ型プラズマ放電を可能にするマグネトロンカソードについて発表する。本カソードに用いた磁場配位は、ターゲットの厚み方向に対し傾いた磁極方向を持つ2つの円筒磁石を用いるだけで実現可能である。TS距離150mm、0.2 Paのアルミスパッタリング条件において、およそ6.7 nm/minの成膜速度を得た。ターゲット使用効率は体積比でおよそ50%となった。</p>...

    DOI

  • プラズマCVDによるグラフェンの成長と初期過程の偏光解析モニタリング

    林 康明, 野々村 秋人, 川上 栞生, 三瓶 明希夫, 中野 美尚, 塚原 尚希, 村上 裕彦 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2019 (0), 1Ca08-, 2019

    ...<p>マグネトロンプラズマCVD法により銅、シリコン、シリコン酸化膜上にグラフェンを成長し、その場偏光解析により成長過程のモニタリングを行った。その結果、基板材料によるグラフェンの成長形態が異なり、核発生密度の違いが観測された。現在は、シリコン酸化膜上で成長初期の核発生過程をモニタリングしながら制御して、結晶性の高いグラフェンを作製する実験を行っている。</p>...

    DOI

  • Cu<sub>2</sub>O/TiO<sub>2</sub>薄膜における酸化銅薄膜構造と光起電力の関係

    石坂 啓介, 鷹野 一朗 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2019 (0), 2P37S-, 2019

    ...<p>反応性マグネトロンスパッタリング法によりp型半導体にCu<sub>2</sub>O、n型半導体にTiO<sub>2</sub>を用いた固体色素増感太陽電池を作製したところ、Cu<sub>2</sub>O成膜時の酸素流量による変換効率への影響が確認された。...

    DOI

  • 透明導電性AlドープZnO薄膜の径方向分布に及ぼすその場アニールの効果

    諏訪 翁紀, 今泉 悟, 中村 忠, 沖村 邦雄 日本表面真空学会学術講演会要旨集 2019 (0), 1P45-, 2019

    ...<p>アルミニウムドープ酸化亜鉛薄膜(AZO)は、低抵抗率及び高光透過率を有することから透明導電膜の代替材料として期待されているが、マグネトロンスパッタによる大面積における抵抗率の径方向不均一性が問題になっている。本研究では、glass基板上にAZO薄膜を堆積させ、その後、その場アニールを行なった。本発表では、その場アニールがAZO薄膜の電気的特性及び結晶構造に及ぼす効果について検討する。</p>...

    DOI

  • 光で動くアモルファス窒化炭素薄膜

    青野 祐美 応用物理 87 (4), 282-286, 2018-04-10

    ...<p>アモルファス窒化炭素(a-CN<sub>x</sub>)薄膜は,高硬度,低摩擦係数がよく知られるところであるが,作製方法や条件で物性値が大きく異なるという特徴を有している.電気的には半導体から絶縁体まで,光学バンドギャップは0から3eVを超える値まで報告があり,多彩な特性を見せる.本稿では,最近,反応性高周波マグネトロンスパッタ法で作製したa-CN<sub>x</sub>薄膜において見つかった...

    DOI Web Site

  • GaN増幅器モジュールを用いたマイクロ波局所加熱による化学反応の高効率化

    弥政 和宏, 塩出 剛士, 山中 宏治, 森 一富, 福本 宏, 石崎 俊雄, 塚原 保徳, 和田 雄二 Journal of the Japan Petroleum Institute 61 (2), 163-170, 2018-03-01

    ...<p>従来の内部加熱方式で用いられるマグネトロンに代表される電子管により励振されるマイクロ波は周波数安定度や位相コヒーレンスが低いために,空間内における電力合成が困難であることから,これら加熱炉内の温度分布の制御が難しいという課題があった。...

    DOI Web Site Web Site 被引用文献1件 参考文献5件

  • パルススパッタリング法によるSUS304ステンレス鋼薄膜の作製

    井上 尚三, 前田 嵩翔, 吉木 啓介 精密工学会学術講演会講演論文集 2018S (0), 637-638, 2018-03-01

    ...<p>非対称な波形のパルス電圧をマグネトロンに印加するパルススパッタリング法は、緻密な薄膜の形成に有用であることが知られている。本研究では、市販のSUS304ステンレス鋼をターゲットに用いた薄膜形成において、パルス周波数やduty比が薄膜の結晶構造や内部応力に及ぼす影響について調査した。その結果、内部応力は電源周波数の影響を受けるが、duty比には殆ど依存しないことが明らかとなった。</p>...

    DOI

  • 高密度収束プラズマを用いた磁性体金属スパッタリング装置

    本村 大成, 田原 竜夫 表面科学学術講演会要旨集 2018 (0), 266-, 2018

    ...マグネトロンスパッタにおいて磁性金属ターゲットを用いる場合には薄厚のターゲットが使用されるが、通常の場合と比べターゲットの使用効率が低下する。そこでターゲット使用効率改善を目的とした高密度収束プラズマスパッタ装置を開発し、FeターゲットをArプラズマでスパッタした。基板加熱なし、スパッタガス圧0.2Pa、ターゲット/基板間距離58mmで、ガラス基板上に25nm/minの成膜速度でα-Feを得た。...

    DOI

  • <b>大電力パルススパッタリング法におけるイオン化粒子が微細孔内側面のAl膜厚分布に及ぼす影響</b>

    小宮 英敏, 清水 徹英, Ana Chaar, 寺西 義一, 楊 明 表面科学学術講演会要旨集 2018 (0), 210-, 2018

    ...これまで、ミリメートルオーダーの入口寸法を持つ細管内壁への均一化学組成被覆を目的として、低温成膜が可能な大電力パルスマグネトロンスパッタリング法による成膜方法の検討を行ってきた。今回、細管内におけるスパッタ粒子の輸送過程を明らかにするためにプラズマ中のイオン/中性粒子比に着目した。投入電力およびパルス幅一定の下、パルスピーク電流密度が異なる条件で細管内にAl成膜を行い膜厚分布の比較評価を実施した。...

    DOI

  • スパッタリング法によるAlドープZnO薄膜の電気的特性に及ぼすHeガス添加の効果

    諏訪 翁紀, 今泉 悟, 津田 和希, 中村 忠, 沖村 邦雄 表面科学学術講演会要旨集 2018 (0), 158-, 2018

    ...本研究では、RFマグネトロンスパッタリングを用いて透明導電性AZドープZnO薄膜をガラス基板上に堆積させた。先行研究では、AZO結晶のc軸配向性が低抵抗率化に関与しており、イオンのエネルギーが結晶成長に影響を及ぼすことが報告されている。本研究では、Arガスに加えてHeガスを導入してAZOの電気的特性について調べた。...

    DOI

  • マグネトロンスパッタリングにより形成したタングステン薄膜の配向性

    後藤 康仁, 藤原 裕史, 矢野 翔太郎 表面科学学術講演会要旨集 2018 (0), 211-, 2018

    ...マグネトロンスパッタを用いて形成される金属薄膜において、ターゲットにおいて反射する高速中性アルゴンの果たす役割について実験的に検討した結果を報告する。具体的には基板ホルダ端部において、基板を傾斜させて作製した薄膜の配向性を調べ、これまでに立てた仮設と矛盾しないことを示した。...

    DOI

  • 大電力パルスマグネトロンスパッタを用いた炭素系薄膜の特性

    縄稚 典生, 伊藤 幸一, 井鷺 洋介, 吉田 善明, 岡本 圭司, 中谷 達行 Journal of the Vacuum Society of Japan 60 (9), 341-345, 2017

     The characteristics of diamond-like carbon (DLC) films deposited by high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) with multipolar magnetic plasma confinement (MMPC) were investigated. DLC films …

    DOI Web Site Web Site 参考文献15件

  • ピンホール成膜による高分解能形状修正成膜法の開発

    西岡 勇人, 本山 央人, 三村 秀和 精密工学会学術講演会講演論文集 2017S (0), 971-972, 2017

    ...本研究はマグネトロンスパッタ法を用いた直径1mm以下のピンホールマスクによる差分成膜法で、現実的に加工可能な時間内に100μmレベルの高分解能の形状修正加工をすることを目標としている。本報では新たに設計し開発した成膜装置について報告する。...

    DOI

  • 細線状TiN電極上へのVO2薄膜の堆積と面直方向絶縁体-金属転移特性評価

    青戸 智寛, 沖村 邦雄 表面科学学術講演会要旨集 37 (0), 88-, 2017

    ...本研究では、RFマグネトロンスパッタ法を用いて細線状TiN電極に対してクロスするようにVO<sub>2</sub>薄膜を細線状に堆積させた。クロスバー方式を導入することで静電容量の抑制によるVO<sub>2</sub>の高速スイッチングが期待できる。...

    DOI

  • 窒化ジルコニウムをベースとする多元系セラミック薄膜の開発

    北御門 雄大, 長谷川 裕之, 中元寺 功貴 精密工学会学術講演会講演論文集 2017S (0), 795-796, 2017

    ...セラミック硬質膜は,切削工具および摺動部材の耐摩耗膜として応用されている.本研究では,機械的特性・熱的特性に優れる硬質膜の開発を目的として,シリコンとアルミニウムを含有した窒化ジルコニウムをベースとする多元系セラミック薄膜を高周波マグネトロンスパッタリング法により作製し,添加元素が窒化ジルコニウムの薄膜硬度・摺動特性・耐酸化性に与える効果を検証した....

    DOI

  • マグネトロンプラズマCVDによるグラフェン成長と基板材料の効果

    野々村 秋人, 石徹白 智, 河村 侑馬, 川上 栞生, 林 康明 表面科学学術講演会要旨集 37 (0), 30-, 2017

    ...これまで、マグネトロンプラズマ化学気相堆積法により銅基板上にグラフェンを成長してきた。今回は、シリコンやシリコン酸化膜上へのグラフェンの成長について、銅基板上での成長と比較しながら、その結果について発表する。...

    DOI

  • 大電力パルスマグネトロンスパッタリング法による(Ti, Al)N膜の微細孔内壁への成膜

    小宮 英敏, 清水 徹英, 寺西 義一, 森河 和雄, 楊 明 表面科学学術講演会要旨集 37 (0), 29-, 2017

    ...微細凹凸構造を有する表面への製膜技術として期待される高出力パルスマグネトロンスパッタリング法を用いて,ミリメートルオーダーの小孔内壁に(Ti,Al)N 被覆を施した.局所化学組成分析の結果,内壁の位置が深くなるにつれてTi, Al およびNの組成比は変化していく様子が明らかとなった.断面観察の結果,薄膜は柱状構造を有しておりその配向角は深さおよび基板バイアスによって変化することが見出された....

    DOI

  • 0.15Paでの持続放電を可能にしたミラー磁場を持つDCマグネトロンカソード

    本村 大成, 田原 竜夫 表面科学学術講演会要旨集 37 (0), 99-, 2017

    ...RFマグネトロンスパッタ法では0.3Pa程度の低ガス圧で持続放電が可能であるが、DC放電ではこれよりも高いガス圧が必要になる。プラズマ閉じ込め効率を増加させるミラー磁場をターゲット表面近傍に持つDCマグネトロンカソードを試作したところ、0.15Pa(Ar)、15Wで持続放電を確認したので報告する。<br>...

    DOI

  • スパッタ成膜a-Si:Hを用いたレーザー誘起誘電泳動による光MEMS拡散センサーの開発

    鎌田 慎, 山田 幹, 田口 良広, 長坂 雄次 熱物性 30 (2), 74-79, 2016

    ...<p>本研究では微量な生体試料の拡散係数を高速に測定するMEMSデバイスを開発している.拡散現象を高速に検知するため,本測定法ではレーザー誘起誘電泳動を利用して前処理不要なマイクロスケール濃度分布形成を可能としている.レーザー誘起誘電泳動には励起光照射により導電率が上昇する光導電膜が必要であり,水素化アモルファスシリコンが用いられる.今回,反応性RFマグネトロンスパッタ法により光導電膜を種々の条件で...

    DOI Web Site Web Site 参考文献9件

  • 反応性スパッタリング法により堆積した窒化スズ薄膜の機械的特性

    井上 泰志, 仲尾 昌浩, 高井 治 表面科学学術講演会要旨集 36 (0), 214-, 2016

    ...反応性スパッタリング法により,ガラス基板上に窒化スズ薄膜を作製し,その機械的特性を評価した.成膜には高周波マグネトロンスパッタリング装置を用いた.ナノインデンテーション法による機械的特性評価の結果,硬度9~12GPa,弾性定数190~220GPaであることがわかった....

    DOI

ページトップへ