土肥 俊郎, 瀬下 清, 山崎 努, 大坪 正徳, 西澤 秀明, 村上 幸, 市川 大造, 中村 由夫, 宮下 忠一, 川村 佳秀, 高木 正孝, 柏田 太志, 曾田 英雄
日本機械学会論文集
81
(824),
14-00618-14-00618,
2015
In this study, we propose innovative polishing method for hard-to-process semiconductor substrate such as SiC. Our innovative polishing method mainly consists of 2 technologies. One is unprecedented …
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