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  • 中電流型イオン注入装置の導入

    中田, 穣治, 斎藤, 保直, 川崎, 克則, 服部, 俊幸, Nakata, Jyoji, Saito, Yasunao, Kawasaki, Katsunori, Hattori, Toshiyuki Science Journal of Kanagawa University 18 95-102, 2007-05-25

    A medium-current-type ion implanter was introduced into Kanagawa University. This machine can be used for various purposes, for example, characteristic changes of various materials such as metals, …

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  • 多目的分析装置の立ち上げ

    中田, 穣治, Nakata, Jyoji, 斎藤, 保直, Ssaito, Yasunao, 川崎, 克則, Kawasaki, Katsunori, 服部, 俊幸, Hattori, Toshiyuki Science Journal of Kanagawa University 18 89-94, 2007-05-25

    Photo-Luminescence (PL) and Cathode-Luminescence (CL) apparatus were designed and created for measurements of fluorescent light from many kinds of semiconductors and other various high-functional …

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  • 高エネルギーイオンビーム応用技術

    梶山 健二, 中田 穣治, 高橋 光俊 応用物理 52 (1), 2-9, 1983

    最近,数Mevの高エネルギーイオンビームを不純物導入およびアニーリングに適用する研究が進められている.これにより, Si集積回路製作工程の簡略化および非晶質層結晶成長の抵温化が試みられている.まず,高エネルギーイオン注入した不純物の分布・損傷の回復条件を示し,これに基づき製作したバイポーラトランジスタおよびリングオシレーターの特性を述べる.次に,この新しいアニーリング法により,イオン注入あるいは…

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