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小川 一文, 田村 秀治 テレビジョン学会誌 42 (1), 56-62_1, 1988
An Evaluation of LB resists for Excimer Laser (EX), and X-ray exposure was conducted to realize half micron lithography. The study included five LB reagents for EX exposure, i. e., wtricocynoic acid …
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田村 秀治, 小川 一文, 上田 久美 テレビジョン学会技術報告 11 (4), 13-18, 1987
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