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検索結果 26 件

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  • 軟X線高速分光イメージングに向けた超高速電子線描画装置による超高刻線密度回折格子の開発

    吉永 享太, 竹尾 陽子, 櫻井 快, O’Neal Jordan Tyler, 中田 勇宇, 島村 勇徳, 江川 悟, 仙波 泰徳, 大橋 治彦, 木村 隆志 精密工学会学術講演会講演論文集 2023A (0), 575-575, 2023-08-31

    ...マルチ開口回折格子は超高密度の不等間隔な刻線を持つ多数の回折格子から構成され、超高速電子線描画装置により作製される。各回折格子が試料上の各位置に対応し、それらの分光スペクトルを高エネルギー分解能で取得できる。本発表では、波動光学計算に基づく設計や半導体プロセスを用いた作製手法に加え、放射光を用いた実験結果を報告する。</p>...

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  • 2次元ナノビーズアレー構造体を用いる透過型表面プラズモン共鳴センサーの開発

    伊永 章史, 中嶋 秀, 臼井 崇, 森岡 和大, 辺見 彰秀, 曽 湖烈, 加藤 俊吾, 内山 一美 分析化学 63 (1), 1-8, 2014

    ...する新規透過型SPRセンサーを開発した．スクロース水溶液に対する検量線は，2000 mM以下の濃度範囲において相関係数0.967の良好な直線性を示し，作製した2次元ナノビーズアレー構造体を用いてSPR測定が可能なことが確かめられた．開発した2次元ナノビーズアレー構造体を有するセンサーチップは，透過型SPRセンサーで一般的に用いられているナノホールアレー構造体を有するセンサーチップとは異なり，高価な電子線描画装置...

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  • 電鋳技術とナノインプリント技術を用いた面領域粗さ標準の複製

    宮本 晋也, 柳 和久, 山口 晋均, 明田川 正人, 宮口 孝司, 吉田 一朗 精密工学会学術講演会講演論文集 2009S (0), 681-682, 2009

    ...近年では微細領域を観察できる顕微鏡が測定機として用いられ，これらの面領域表面性状測定機の特性を検証するため，面領域粗さ標準の必要性が議論されている．本研究では超精密加工機と電子線描画装置で製作された標準面をマスター標準面として，電鋳技術とナノインプリント技術を用いて複製し、測定標準面を製作した．また，電鋳とナノインプリントの条件の違いによる転写精度の比較検討も行った．...

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  • 電子線描画装置を用いた面領域粗さ標準の開発

    古賀 大丸, 柳 和久, 明田川 正人, 宮口 孝司, 吉田 一朗, 佐藤 健 精密工学会学術講演会講演論文集 2007A (0), 685-686, 2007

    ...原子間力顕微鏡及び，走査型電子顕微鏡などの微細領域を観察できる顕微鏡がある．しかし，近年では測定機として用いられることが要求されており，それを校正するための面領域粗さ標準が必要となってきている．本研究では，主に原子間力顕微鏡を対象とした面領域粗さ標準の製作を目的とする．本報では電子線描画装置を用いて，微細表面形状をシリコンウェハ上に塗布した電子線用レジストに加工するための設計手法について報告する．...

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  • ネガ型電子ビームレジストを用いた三次元構造物の作製およびその応用

    山内 瑛樹, 谷口 淳 精密工学会学術講演会講演論文集 2006A (0), 883-884, 2006

    ...本研究は、ネガ型電子ビームレジストであるHydrogen Silsesquixane(HSQ)を用いて電子線描画装置における電子の加速電圧とレジストへの電子の進入深さの相互関係を利用し、電子の進入領域以外を現像液により除去することで、中空構造の作製条件を調査した。このことにより、三次元構造物を作製し、さらにその膜を用いて応用した。この応用がナノテクノロジー分野でのプロセスに利用できると考えている。...

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  • 電子線露光を用いたHSQレジストの立体構造の作製

    松原 靖, 谷口 淳, 宮本 岩男 精密工学会学術講演会講演論文集 2005A (0), 113-114, 2005

    ...その手法は、電子線描画装置における電子の加速電圧とレジストへの電子の進入深さの相互関係を利用している。電子の進入領域以外を現像液によって除去することで中空構造を作製した。レジストの構造は1μm以下の細線で構成されており、半導体分野での製造プロセスに利用できると考えている。...

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  • シリコンMEMSの新潮流

    江刺 正喜 応用物理 73 (9), 1158-1165, 2004-09-10

    ...<p>MEMS(微小電気機械システム)は，集積回路製造技術を発展させたマイクロマシニングと呼ばれる微細加工技術を基本にして，シリコンチップ上などに高付加価値のシステムデバイスを作る技術である．シリコンのリング回転子が静電力で浮上する回転ジャイロなどの慣性センサー，マルチプローブのデータ記録装置やマルチ鏡筒電子線描画装置のような配列構造のアレイMEMS，ワイヤレス機器用のオンチップフィルターやリレーのような...

    DOI Web Site 被引用文献2件 参考文献39件

  • 非共振型超音波モータ駆動ステージの真空内評価

    古川 博之, 久保田 弘, 中田 明良, 遠藤 泰史, 橋口 弘幸, 小坂 光二, 小坂 哲也, 江頭 義也, 山川 孝宏 精密工学会学術講演会講演論文集 2003A (0), 781-781, 2003

    ...電子線描画装置等への導入を見据えた際に重要になってくるのは、真空雰囲気において大気中と同等の駆動性能を実現することである。本発表では、大気中と真空中における駆動性能の比較について述べる。...

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  • 2 次元 TiO2 フォトニック結晶の作製と光学特性

    島田 周, 桑原 誠 日本セラミックス協会　年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2003S (0), 131-131, 2003

    ...電子線描画装置により、円形穴が三角格子配列されたレジスト鋳型を作製した。鋳型に前駆液を充填後、鋳型上のTiO2前駆体層(-数μm)をドライエッチングにより除去した。レジスト除去後、焼成してTiO2-PCを得た。PCのTE、TM偏光反射特性を調べた。バンド構造は、平面波展開法で計算した。...

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  • 高真空対応型静圧気体軸受に関する研究

    吉田 雄一, 吉本 成香, 八木 和行 精密工学会学術講演会講演論文集 2003S (0), 787-787, 2003

    ...近年、電子線描画装置の真空チャンバ内にある位置決めステージを静圧空気軸気で支持することが考えられている。本研究では静圧空気軸受を真空チャンバ内で使用可能とする排気システムを提案する。そしてステージを移動した場合の真空チャンバ内真空度変化を明らかにすることを目的としている。...

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  • クリスタグラムによるカラー表現

    永野 彰, 戸田 敏貴 日本印刷学会　研究発表会　要旨集 110 (0), 6-6, 2003

    ...電子線描画装置により微小な回折格子を画素として構成し、絵柄を表示するクリスタグラムは、通常の印刷物とは異なり、照明の方向や観察位置に応じて色や明るさが変化する特殊な効果を実現できる。そのような特徴により、クリスタグラムは偽造防止用途だけでなく、製品ラベルや店頭ポスター等の人目をひくことを目的とした商業印刷分野での利用も多い。...

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  • ＣＧＨを用いた非球面形状測定干渉計

    玄間 隆志 精密工学会誌 56 (10), 1791-1795, 1990

    ...<BR>CGHを用いた干渉法は,波面の変換機能というホログラムの特徴を用いた測定法である.原理自体はよく知られていたこの方法が,近年再び脚光を浴びている理由としては,非球面光学素子の急速な利用拡大と共に電子線描画技術の発達があげられる.本干渉法は測定する非球面ごとにCGHを作製しなければならないものの現在のところ最も高精度な干渉法であり,電子線描画装置やレーザ描画装置の更なる発展により今後より広く利用...

    DOI Web Site 被引用文献1件

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