4th International Symposium on Plasma Chemistry : Topical Meeting on Interactions of Low Pressure Plasmas with Solid Surfaces : Round Table on Thermal Plasma Processing : conference proceedings, August 27 through September 1, 1979

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4th International Symposium on Plasma Chemistry : Topical Meeting on Interactions of Low Pressure Plasmas with Solid Surfaces : Round Table on Thermal Plasma Processing : conference proceedings, August 27 through September 1, 1979

edited by S. Vepřek and J. Hertz

University of Zurich, [1979]

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注記

At head of title: ISPC-4; International Union of Pure and Applied Chemistry

Includes bibliographical references and indexes

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA14448459
  • LCCN
    81481907
  • 出版国コード
    sz
  • タイトル言語コード
    eng
  • 本文言語コード
    eng
  • 出版地
    Zurich, Switzerland
  • ページ数/冊数
    2 v.
  • 大きさ
    21 cm
  • 分類
  • 件名
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