VLSIパタン設計のための専用プロセッサに関する研究 vuieruesuai patan sekkei no tameno sen'yo purosessa ni kansuru kenkyu

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著者

    • 鈴木, 敬 スズキ, ケイ

書誌事項

タイトル

VLSIパタン設計のための専用プロセッサに関する研究

タイトル別名

vuieruesuai patan sekkei no tameno sen'yo purosessa ni kansuru kenkyu

著者名

鈴木, 敬

著者別名

スズキ, ケイ

学位授与大学

早稲田大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第776号

学位授与年月日

1989-03-15

注記・抄録

博士論文

制度:新 ; 文部省報告番号:甲776号 ; 学位の種類:工学博士 ; 授与年月日:1989-03-15 ; 早大学位記番号:新1488 ; 理工学図書館請求番号:1269

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000056302
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000056441
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000220616
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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