Study of electron-beam exposure (EBE) and epitaxy of GaAs films on CaF[2]/Si structures EBEエピタキシーによるCaF[2]/Si構造上のGaAs膜の形成に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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Study of electron-beam exposure (EBE) and epitaxy of GaAs films on CaF[2]/Si structures
- タイトル別名
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EBEエピタキシーによるCaF[2]/Si構造上のGaAs膜の形成に関する研究
- 著者名
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李, 煕哲
- 著者別名
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イ, ヒチェル
- 学位授与大学
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東京工業大学
- 取得学位
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工学博士
- 学位授与番号
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甲第2094号
- 学位授与年月日
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1989-03-26
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 (10コマ目)