【12/14(木)17時より】CiNiiの常時SSL化(HTTPS接続)について

高融点金属酸化物薄膜レジストによる集束イオンビームナノリソグラフィ

この論文をさがす

著者

    • 橋本, 雅広 ハシモト, マサヒロ

書誌事項

タイトル

高融点金属酸化物薄膜レジストによる集束イオンビームナノリソグラフィ

著者名

橋本, 雅広

著者別名

ハシモト, マサヒロ

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第217号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 要旨 / (0004.jp2)
  2. 目次 / (0006.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0008.jp2)
  4. 1.1 微細加工技術の現状 / p1 (0008.jp2)
  5. 1.2 研究目的 / p3 (0010.jp2)
  6. 第2章 集束イオンビーム露光特性 / p4 (0011.jp2)
  7. 2.1 集束イオンビームの特長 / p4 (0011.jp2)
  8. 2.2 液体金属イオン源 / p5 (0012.jp2)
  9. 2.3 集束イオンビーム装置 / p7 (0014.jp2)
  10. 2.4 無機レジスト材料 / p9 (0016.jp2)
  11. 2.5 集束イオンビームリソグラフィプロセス / p11 (0018.jp2)
  12. 2.6 集束イオンビーム露光特性 / p14 (0021.jp2)
  13. 2.7 まとめ / p27 (0034.jp2)
  14. 第3章 レジスト特性の発現機構 / p28 (0035.jp2)
  15. 3.1 Ar⁺イオン露光特性 / p28 (0035.jp2)
  16. 3.2 表面組成分析 / p32 (0039.jp2)
  17. 3.3 構造分析 / p42 (0049.jp2)
  18. 3.4 レジストメカニズムの総合的考察 / p47 (0054.jp2)
  19. 3.5 まとめ / p59 (0066.jp2)
  20. 第4章 極微細線構造の作製 / p62 (0069.jp2)
  21. 4.1 ネガ形MoO₃細線の作製 / p62 (0069.jp2)
  22. 4.2 ポジ形WO₃パターンの作製 / p82 (0089.jp2)
  23. 4.3 まとめ / p83 (0090.jp2)
  24. 第5章 二層レジストプロセスの導入 / p85 (0092.jp2)
  25. 5.1 二層レジストプロセス / p85 (0092.jp2)
  26. 5.2 二層レジストプロセス導入の意義 / p88 (0095.jp2)
  27. 5.3 二層レジストパターンの作製 / p88 (0095.jp2)
  28. 5.4 サイドエッチング / p91 (0098.jp2)
  29. 5.5 極微二層細線抵抗の還元温度依存性 / p95 (0102.jp2)
  30. 5.6 極微二層金属細線抵抗の温度特性 / p98 (0105.jp2)
  31. 5.7 まとめ / p98 (0105.jp2)
  32. 第6章 ナノゲートMOSFETへの応用 / p99 (0106.jp2)
  33. 6.1 MOSFET作製プロセス / p99 (0106.jp2)
  34. 6.2 動作特性 / p109 (0116.jp2)
  35. 6.3 まとめ / p110 (0117.jp2)
  36. 第7章 結論 / p111 (0118.jp2)
  37. 参考文献 / p113 (0120.jp2)
  38. 付録 / p116 (0123.jp2)
  39. 付録-I イオン源作製手順 / p116 (0123.jp2)
  40. 付録-II 阻止能の導出 / p118 (0125.jp2)
  41. 付録-III 光電子分光スペクトル(01s) / p121 (0128.jp2)
  42. 付録-IV 光学吸収 / p123 (0130.jp2)
  43. 付録-V モンテカルロ法 / p126 (0133.jp2)
  44. 付録-VI 解析的な飛程計算法 / p128 (0135.jp2)
  45. 付録-VII 有機系レジスト特性値 / p130 (0137.jp2)
  46. 付録-VIII 無機系レジスト特性値 / p135 (0142.jp2)
  47. 研究業績 / (0145.jp2)
  48. 謝辞 / (0158.jp2)
0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000174874
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000175151
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000339188
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ