有機物質のシリコンウェハ表面の吸着特性と水分の影響 : クリーンルーム内のガス状有機物質に関する研究

• 鍵 直樹

  東京工業大学大学院

• 藤井 修二

  東京工業大学大学院情報理工学研究科

• 湯浅 和博

  東京工業大学工学部建築学科

• 田中 克昌

  東京工業大学工学部機械科学科

書誌事項

タイトル別名

• ROLE OF MOISTURE FOR ABSORPTION MECHANISMS OF ORGANIC COMPOUNDS ON SI WAFER SURFACES : Gaseous organic compounds in cleanroom air
• ユウキ ブッシツ ノ シリコンウェハ ヒョウメン ノ キュウチャク トクセイ ト スイブン ノ エイキョウ クリーンルーム ナイ ノ ガスジョウ ユウキ ブッシツ ニ カンスル ケンキュウ

抄録

In this study, organic compounds in cleanroom air and on silicon (Si) wafer surface were investigated by using gas chromatograph-mass spectroscopy (GC-MS) and thermal desorption-atmospheric pressure ionization MS (TD-APIMS). The adsorption mechanisms of organic compounds on Si wafer surface were considered. We prepared two different types of Si wafers; one was with hydrogen terminate and another one was with native oxygen. These wafers were exposed in the organic gases exposure system under a control of moisture, organic gases concentration and exposure time. The results of this study are as follows; (1) ethylene, the non polar substance, was detected with higher concentrations from Si wafer with hydrogen terminate than that with native oxygen, (2) dioctyl phthalate, the polar substance, was detected with higher concentrations from Si wafer with native oxygen than that with hydrogen terminate, and (3) moisture had influences on the adsorption on Si wafer.

収録刊行物

• 日本建築学会計画系論文集

  日本建築学会計画系論文集 64 (517), 53-57, 1999

  日本建築学会

キーワード

• 有機物質
• クリーンルーム
• 表面汚染
• 水分

詳細情報

• CRID: 1390282679757964288
• NII論文ID: 110004655380
• NII書誌ID: AN10438548
• DOI: 10.3130/aija.64.53_2
• ISSN: 18818161
• ISSN: 13404210
• NDL書誌ID: 4684071
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4684071
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/aija/64/517/64_KJ00004222972/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可