Studies of oxidation-induced stacking faults in silicon シリコン結晶の熱酸化積層欠陥の研究

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Author

    • 早藤, 貴範 ハヤフジ, ヨシノリ

Bibliographic Information

Title

Studies of oxidation-induced stacking faults in silicon

Other Title

シリコン結晶の熱酸化積層欠陥の研究

Author

早藤, 貴範

Author(Another name)

ハヤフジ, ヨシノリ

University

関西学院大学

Types of degree

理学博士

Grant ID

乙第101号

Degree year

1984-03-27

Note and Description

博士論文

1access

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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000050680
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000050791
  • Text Lang
    • eng
  • NDLBibID
    • 000000214994
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE

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