高誘電率材料を用いたゲート絶縁膜の作製とその評価に関する研究 A study for fabrication and evaluation of gate dielectric thin films using high-k materials
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著者
書誌事項
- タイトル
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高誘電率材料を用いたゲート絶縁膜の作製とその評価に関する研究
- タイトル別名
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A study for fabrication and evaluation of gate dielectric thin films using high-k materials
- 著者名
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長里, 喜隆
- 著者別名
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ナガサト, ヨシタカ
- 学位授与大学
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東京農工大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
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甲第567号
- 学位授与年月日
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2008-03-25
注記・抄録
博士論文