Hot-carrier effects in nanoscale MOSFETs : generation behavior of interface traps ナノスケールMOSFETにおけるホットキャリア効果 : 界面トラップの発生振舞い

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著者

    • 胡, 明 フー, ミン

書誌事項

タイトル

Hot-carrier effects in nanoscale MOSFETs : generation behavior of interface traps

タイトル別名

ナノスケールMOSFETにおけるホットキャリア効果 : 界面トラップの発生振舞い

著者名

胡, 明

著者別名

フー, ミン

学位授与大学

島根大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第470号

学位授与年月日

2012-09-24

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000570654
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000572944
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024457746
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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