A study on Si surface roughness for 3-dimensional MOSFETs with HfON gate insulator

著者

    • HAN, DAEHEE
    • Han, DaeHee

書誌事項

タイトル

A study on Si surface roughness for 3-dimensional MOSFETs with HfON gate insulator

著者名

HAN, DAEHEE

著者名

Han, DaeHee

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第9535号

学位授与年月日

2014-03-26

注記・抄録

identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:50276535

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目次

  1. 2021-05-17 再収集 (2コマ目)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000932272
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001585032
    • 8000001585033
  • 本文言語コード
    • eng
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDLデジタルコレクション
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