Dry etching for microelectronics

著者

• Powell, Ronald A.

書誌事項

Dry etching for microelectronics

edited by Ronald A. Powell

（Materials processing, theory and practices, v. 4）

North-Holland , Distributors for the USA and Canada, Elsevier Science Pub. Co., 1984

注記

Bibliography: p. 223-294

Includes index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA00157673
• ISBN:
  • 0444869050
• LCCN: 84001145
• 出版国コード: ne
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Amsterdam ; Tokyo,New York, N.Y.
• ページ数/冊数: xi, 299 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.85
  • DC : 621.381/73
• 件名:
  • LCSH : Semiconductors -- Etching
  • LCSH : Plasma etching
• 親書誌ID:
  • BA00157684