Ionized-cluster beam deposition and epitaxy

著者

• 高木, 俊宜 タカギ, トシノリ

書誌事項

Ionized-cluster beam deposition and epitaxy

by Toshinori Takagi

（Materials science and process technology series）

Noyes Publications, c1988

注記

Bibliography: p. 218-228

Includes index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA06829865
• ISBN:
  • 081551168X
• LCCN: 88017884
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Park Ridge, N.J., U.S.A.
• ページ数/冊数: viii, 231 p.
• 大きさ: 26 cm
• 分類:
  • LCC : TK7872.T55
  • DC19 : 621.381/7
• 件名:
  • LCSH : Thin film devices -- Design and construction
  • LCSH : Epitaxy
• 親書誌ID:
  • BA04523161