Photoelasticity : proceedings of the international symposium held at illinois institute of technology, Chicago, Illinis, Oct. 1961

著者

• International Symposium on Photoelasticity
• Frocht, Max Mark

書誌事項

Photoelasticity : proceedings of the international symposium held at illinois institute of technology, Chicago, Illinis, Oct. 1961

ed. by Max Mark Frocht

Pergamon, 1963

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA08476890
• 出版国コード: uk
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Oxford
• ページ数/冊数: 294 p.
• 大きさ: 23 cm