Impurity doping processes in silicon

著者

• Wang, Franklin F. Y.

書誌事項

Impurity doping processes in silicon

edited by F.F.Y. Wang

（Materials processing, theory and practices, v. 2）

North-Holland Pub. Co. , Sole distributors for the USA and Canada, Elsevier North-Holland, c1981

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA10159052
• ISBN:
  • 0444860959
• LCCN: 81038428
• 出版国コード: ne
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Amsterdam ; New York,New York, N.Y.
• ページ数/冊数: 643 p.
• 大きさ: 23 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.85
  • DC19 : 621.3815/2
• 件名:
  • LCSH : Semiconductor doping
• 親書誌ID:
  • BA00157684