Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes

著者

• Luft, Werner
• Tsuo, Y. Simon

書誌事項

Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes

Werner Luft, Y. Simon Tsuo

（Applied physics, 1）

M. Dekker, c1993

注記

Includes bibliographical references (p. 243-316) and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA20820408
• ISBN:
  • 0824791460
• LCCN: 93018931
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: New York
• ページ数/冊数: xiv, 327 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : TK7872.T55
  • DC20 : 621.3815/2
• 件名:
  • LCSH : Thin film devices -- Design and construction
  • LCSH : Silicon alloys
  • LCSH : Plasma-enhanced chemical vapor deposition
  • LCSH : Thin films -- Optical properties
  • LCSH : Thin films -- Electric properties
• 親書誌ID:
  • BA20820485