Principles of plasma discharges and materials processing

著者

• Lieberman, M. A. (Michael A.)
• Lichtenberg, Allan J.

書誌事項

Principles of plasma discharges and materials processing

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg

Wiley, c1994

注記

Includes bibliographical references (p. 559-564) and index

"A Wiley-Interscience publication."

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA2405445X
• ISBN:
  • 0471005770
• LCCN: 94028954
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: New York
• ページ数/冊数: xxvi, 572 p.
• 大きさ: 25 cm
• 分類:
  • NDC8 : 427.6
  • LCC : QC718.5.D9
  • DC20 : 530.4/4
• 件名:
  • LCSH : Plasma dynamics
  • LCSH : Thin films -- Surfaces
  • LCSH : Plasma etching
  • LCSH : Plasma chemistry