Plasma deposition of amorphous silicon-based materials

著者

• Bruno, Giovanni
• Capezzuto, Pio
• Madan, A. (Arun)

書誌事項

Plasma deposition of amorphous silicon-based materials

edited by Giovanni Bruno, Pio Capezzuto, Arun Madan

（Plasma-materials interactions）

Academic Press, c1995

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA2626808X
• ISBN:
  • 012137940X
• LCCN: 95012433
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Boston
• ページ数/冊数: xi, 324 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.99.A45
  • DC20 : 621.3815/2
• 件名:
  • LCSH : Amorphous semiconductors -- Design and construction
  • LCSH : Silicon alloys
  • LCSH : Plasma-enhanced chemical vapor deposition
• 親書誌ID:
  • BA0662742X