Stress-induced phenomena in metallization : third international workshop, Palo Alto, CA June 1995

著者

書誌事項

Stress-induced phenomena in metallization : third international workshop, Palo Alto, CA June 1995

editors, Paul S. Ho, John Bravman, Che-Yu Li

(AIP conference proceedings, 373)

American Institute of Physics, c1996

大学図書館所蔵 件 / 6

この図書・雑誌をさがす

注記

DOE CONF-9506336

Includes bibliographical references and index

内容説明・目次

内容説明

This text is aimed at engineers and research scientists working in the fields of microelectronics and ma terials science. '

「Nielsen BookData」 より

関連文献: 1件中  1-1を表示

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA28019042
  • ISBN
    • 1563964392
  • LCCN
    96084949
  • 出版国コード
    us
  • タイトル言語コード
    eng
  • 本文言語コード
    eng
  • 出版地
    New York
  • ページ数/冊数
    vii, 304 p.
  • 大きさ
    25 cm
  • 親書誌ID
ページトップへ