Modeling of film deposition for microelectronic applications

著者

• Francombe, Maurice H.
• Vossen, John L.

書誌事項

Modeling of film deposition for microelectronic applications

edited by Stephen Rossnagel

（Thin films, v. 22）

Academic Press, c1996

注記

Includes bibliographical references and indexes

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA28758239
• ISBN:
  • 0125330227
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: San Diego ; Tokyo
• ページ数/冊数: xiv, 291 p., [3] p. of plates
• 大きさ: 24 cm
• 件名:
  • LCSH : Thin films
• 親書誌ID:
  • BA25443322