ULSIプロセス技術

著者

• 原, 央 ハラ, ヒサシ

書誌事項

ULSIプロセス技術

原央編

（アドバンストエレクトロニクスシリーズ / 菅野卓雄 [ほか] 監修, カテゴリー1 . エレクトロニクス材料・物性・デバイス||エレクトロニクス ザイリョウ ブッセイ デバイス ; 17）

培風館, 1997.6

タイトル読み

ULSI プロセス ギジュツ

注記

執筆: 有門経敏ほか

参考文献: 各章末

索引あり

内容説明・目次

内容説明

ＩＣから、ＵＬＳＩ、さらにＧＳＩへと発展しようとしている集積回路は、高度情報・通信社会の基盤を支える技術である。本書はこれら最先端の集積回路を実現するために必要な、広範囲なプロセス技術に関する解説書である。

目次

• １　集積回路の構造と必要なプロセス技術
• ２　微細加工技術
• ３　簿膜堆積技術
• ４　酸化膜技術
• ５　不純物導入技術
• ６　清浄化技術
• ７　結晶成長技術
• ８　高・強誘電体薄膜形成技術
• ９　プロセスモジュール技術
• １０　プロセスシミュレーション技術
• １１　ＵＬＳＩプロセス技術の将来動向と課題

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA30760470
• ISBN:
  • 456303617X
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: x, 286p
• 大きさ: 22cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC9 : 549.7
• 件名:
  • NDLSH : 集積回路
• 親書誌ID:
  • BN10717539