VLSIとCVD : 半導体デバイスへのCVD技術の応用

著者

• 前田, 和夫 マエダ, カズオ

書誌事項

VLSIとCVD : 半導体デバイスへのCVD技術の応用

前田和夫著

槙書店, 1997.7

タイトル読み

VLSI ト CVD : ハンドウタイ デバイス エノ CVD ギジュツ ノ オウヨウ

注記

参考文献: p[377]-384

総合・CVD関連材料索引: p388-396

内容説明・目次

目次

• １章　ＣＶＤとシリコンデバイス
• ２章　ＣＶＤ技術概論
• ３章　ＣＶＤによる膜形成法
• ４章　ＣＶＤ膜形成用原料化合物
• ５章　ＣＶＤ膜形成反応の制御
• ６章　ＣＶＤ膜形成各論
• ７章　ＣＶＤ膜の評価技術
• ８章　ＣＶＤ膜の応用
• ９章　ＣＶＤ装置
• １０章　ＣＶＤ技術の将来展望

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA31815443
• ISBN:
  • 4837506453
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 2,7,396p
• 大きさ: 22cm