薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー
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薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー
(K books, 128)
工業調査会, 1997.7
- タイトル読み
-
ハクマク ギジュツ ノ シンチョウリュウ : タサイ ナ シンキ オウヨウ オ カバー
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注記
参考文献: 各章末
内容説明・目次
内容説明
薄膜技術が時代を支えているといっても過言ではない。高度情報化社会の到来により種々の情報・映像機器が登場しているが、これらの機器のキーデバイスとなる超LSI、ディスプレイ、磁気メモリ、光ディスクなどの作製に必須の技術となっているからである。本書ではこの技術の基礎から具体的な形成・加工技術、さらには広汎な応用技術までを詳説している。
目次
- 第1章 はじめに
- 第2章 薄膜技術の基礎(薄膜技術における真空、気体の性質;原子・分子の励起・電離と衝突過程 ほか)
- 第3章 薄膜形成技術(薄膜形成の基礎;各種薄膜形成技術—I(PVD) ほか)
- 第4章 加工技術(はじめに;ドライエッチング技術の基礎 ほか)
- 第5章 薄膜技術の応用(センサ;半導体デバイス ほか)
「BOOKデータベース」 より