薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー
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薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー
（K books, 128）
工業調査会, 1997.7
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ハクマク ギジュツ ノ シンチョウリュウ : タサイ ナ シンキ オウヨウ オ カバー
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参考文献: 各章末
Description and Table of Contents
Description
薄膜技術が時代を支えているといっても過言ではない。高度情報化社会の到来により種々の情報・映像機器が登場しているが、これらの機器のキーデバイスとなる超ＬＳＩ、ディスプレイ、磁気メモリ、光ディスクなどの作製に必須の技術となっているからである。本書ではこの技術の基礎から具体的な形成・加工技術、さらには広汎な応用技術までを詳説している。
Table of Contents
- 第１章 はじめに
- 第２章 薄膜技術の基礎（薄膜技術における真空、気体の性質；原子・分子の励起・電離と衝突過程 ほか）
- 第３章 薄膜形成技術（薄膜形成の基礎；各種薄膜形成技術—Ｉ（ＰＶＤ） ほか）
- 第４章 加工技術（はじめに；ドライエッチング技術の基礎 ほか）
- 第５章 薄膜技術の応用（センサ；半導体デバイス ほか）
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