シリコン表面における原子レベルでの動的過程

Author(s)

• 一宮, 彪彦 イチミヤ, アヤヒコ

Bibliographic Information

シリコン表面における原子レベルでの動的過程

一宮彪彦[ほか著]

（科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書, 平成8年度）

[出版社不明], 1997.3

Title Transcription

シリコン ヒョウメン ニ オケル ゲンシ レベル デノ ドウテキ カテイ

Note

研究課題番号:07455022

Details

• NCID: BA3529997X
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpneng
• Place of Publication: [出版地不明]
• Pages/Volumes: 52p
• Size: 30cm
• Parent Bibliography ID:
  • BA31388455