ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究

書誌事項

ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究

後藤俊夫 [ほか著]

[出版者不明], 1999.3

タイトル別名

平成8年度ー平成10年度科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書

タイトル読み

ラジカル セイギョ オ モチイタ ヒョウメン ハンノウ カテイ オヨビ ハクマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ

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注記

課題番号:08405005

研究分担者: 河野明廣,堀勝,伊藤昌文

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA42507352
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    [出版地不明]
  • ページ数/冊数
    47p
  • 大きさ
    30cm
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