シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

著者

• 服部, 毅 ハットリ, タケシ

書誌事項

シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

服部毅編著

リアライズ社, 2000.5

新版

タイトル読み

シリコン ウェーハ ヒョウメン ノ クリーンカ ギジュツ

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA47536518
• ISBN:
  • 4898080235
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 8, 468, 12p
• 大きさ: 26cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
  • NDLC : ND371
• 件名:
  • NDLSH : シリコン(半導体)